Fotolitografi tekniği ile manyetik mikro aygıtların üretimi

Abstract

Litografi kelimesi, Yunancada kelimenin tam anlamıyla taşların üzerine yazmak anlamına gelir. Litografide kullanılan yarı iletkenler için taşlarımız sili kon plaka (wafer) ve oluşturulacak desenlerde ışığa duyarlı foto-dirençler ile yaz dırılmaktadır. Tümleşik devre (IC) ve karmaşık yapıları inşa etmek için transistör ve bir devrenin milyonlarca transistörünü birbirine bağlayan birçok kablo, litog rafi ile oluşturulan desen transfer adımları en az 10 kez tekrarlanır, ancak tipik olarak tam bir devre yapmak için bu tekrar sayısı 25 ile 40 kata kadar değişmek tedir. Plaka üzerine basılan her desen, önceden oluşturulmuş desenler vasıtası ile seçilen bölgelere baskılanmaktadır. Yarı iletken endüstriside temel teknolojinin üretim süreci için gerekli adımı litografi tekniği ile sağlanmaktadır. Litografi tek niği, minimum yazdırılabilir ya da işlenebilirlik özelliklerine bağlı olarak hem devre hızının, hemde entegrasyon yoğunluğunun düzenlenmesi ile mikro tekno lojide önemli bir yere sahiptir. Verim ve plaka verimi büyük ölçüde litografi sü recine bağlı olduğundan, sadece aygıt performans sorunları değil, aynı zamanda bütünleşmiş devre üretiminin ekonomisi de litografi ile ilgilidir. Diğer teknolojiler arasında fotolitografi, belirli, bir maske ile, yarı iletken plaka üzerindeki özellik leri tanımlamak için kullanılmaktadır. Bu teknolojinin avantajları göz önüne alın dığında önümüzdeki birkaç nesil için yarı iletken cihaz üretim teknolojisinin de ğişmesi beklenmemektedir. Optik projeksiyon baskı sistemleri, yüksek işlem hacmi verimi ve yüksek çözünürlük gibi büyük avantajlara sahiptir. Plaka üze rinde, fotolitografi esnasında kullanılan dalga boyundan daha küçük olan mini mum özellik boyutları çözümlenebilir. Litografi araçlarının maliyetleri, çip üretim maliyetlerinin %35\" ini temsil etmektedir ve önemi hergeçengün artmaktadır. Fo tolitografi alanındaki gelişmeler, yarı iletken endüstrisinin sürekli büyümesi için en kritik faktörlerdir. Fotolitografi gibi, Teknoloji-Bilgisayar Destekli Tasarım metodolojileri, patlayıcı geliştirme maliyetlerinin üstesinden gelmek içinde yaygın olarak kullanılmaktadır. Maliyet düşürmeye ek olarak, tamamen deneysel ge liştirme yaklaşımına kıyasla, hızlı geri dönüş süreleri ile bu sistemleri özellikle çekici kılmaktadır.